第 24 屆中國集成電路制造年會暨供應(yīng)鏈創(chuàng)新發(fā)展論壇在廣州成功舉辦，寧波南大光電材料有限公司毛智彪博士在會上發(fā)表以《ArF 光刻膠國產(chǎn)化的機(jī)遇和挑戰(zhàn)》為主題的演講。
毛智彪博士表示，從國內(nèi) IC 光刻膠供應(yīng)現(xiàn)狀來看，國內(nèi) IC 光刻膠基本依賴從日本和美國進(jìn)口，而美國對中國的貿(mào)易限制和日本光刻膠企業(yè)產(chǎn)能短缺對國內(nèi)集成電路制造企業(yè)產(chǎn)生了較大影響，這導(dǎo)致國內(nèi)集成電路制造企業(yè)亟需穩(wěn)定的光刻膠供應(yīng)。
當(dāng)前，國外光刻膠供應(yīng)不穩(wěn)定問題極大地帶動了光刻膠國產(chǎn)替代的需求。同時，伴隨著汽車電子和 5G 等新應(yīng)用持續(xù)擴(kuò)大，國內(nèi) IC 光刻膠市場需求進(jìn)一步增長。
值得注意的是，毛智彪博士指出，國產(chǎn) IC 光刻膠還面臨著四大挑戰(zhàn)：
一是本土人才缺乏，需要引進(jìn)人才和自主培養(yǎng)人才。
二是光刻膠產(chǎn)品檢測驗證成本高昂，國內(nèi)缺少必須的檢測驗證能力。
三是國產(chǎn)替代的現(xiàn)實決定了現(xiàn)階段國產(chǎn)光刻膠產(chǎn)品的客制化特性。
四是國內(nèi)缺少光刻膠材料產(chǎn)業(yè)鏈，缺少對光刻膠原材料的研發(fā)。
據(jù)毛智彪博士介紹，光刻膠的原材料主要包括溶劑、成膜樹脂、光致酸劑、抑制劑，其中最難做的材料就是成膜樹脂，不但要用于成膜，而且決定了光刻膠產(chǎn)品的光刻性能和刻蝕性能。而樹脂是高分子材料，需要對納米級材料的控制，對微觀領(lǐng)域有深刻的理解才能做到光刻膠的材料。
毛智彪博士指出，國產(chǎn)光刻膠需要建立起從原材料到光刻膠產(chǎn)品的產(chǎn)業(yè)鏈，并且持續(xù)投入對原材料的研發(fā)，才能支撐起長久健康的發(fā)展。
目前，寧波南大光電已初步開發(fā)成功 ArF 光刻膠產(chǎn)品體系，建成了光刻膠生產(chǎn)和檢測基地，培養(yǎng)了一支基礎(chǔ)的人才隊伍。
毛智彪博士表示，作為光刻膠領(lǐng)域的后起之秀，南大光電仍然面臨嚴(yán)峻挑戰(zhàn)，還有很長的上山路需要攀登，需要更多的優(yōu)秀人才加入我們的團(tuán)隊，共同打造國產(chǎn)光刻膠的未來。
