默克公司今(8)日宣布與美光科技合作開發用于半導體工藝、能降低全球變暖趨勢的氣體解決方案。
默克表示，經過一年的持續合作，美光科技目前正在測試默克研發部門提供的低 GWP 替代性蝕刻氣體，以驗證其制程性能，從而取代傳統的高 GWP 材料，目標在半導體制程中導入全新且更具可持續性的氣體解決方案。兩家公司皆致力于發掘有助實現永續發展目標的新穎材料，以取代現行應用于干蝕刻與光罩清洗制程的多種高暖化潛勢的蝕刻氣體。
美光科技副總裁 John Whitman 表示，為達成在 2030 年減少 42% 的全球運營所造成的碳排放(相較于 2020 年)這一目標，美光科技投入于投資先進的減排系統、優先使用全球暖化潛勢較低的氣體、外購節能設備、以可再生能源石化取代能源等方面。
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