Intel透露“4nm EUV”工藝進(jìn)展:每瓦性能提升20% 進(jìn)展良好

              2021-11-12 21:07:19    來源:快科技

              10月底發(fā)布的12代酷睿不僅升級了大小核架構(gòu),工藝也升級到了Intel 7(之前的10nm SF工藝增強(qiáng)版),從這一代開始Intel的工藝也會爆發(fā),4年時間要掌握5代工藝,其中下一個工藝是Intel 4,官方現(xiàn)在透露它的進(jìn)展很順利,芯片測試已經(jīng)完美通過。

              Intel 4工藝就是沒改名之前的Intel 7nm工藝,它可是Intel接下來非常重要的工藝節(jié)點,會首次引入EUV光刻機(jī),能效比再提升大約20%,明年下半年投產(chǎn),2023年產(chǎn)品上市。

              現(xiàn)在Intel首次透露了這個“4nm EUV”工藝的進(jìn)展,官方放出了48秒的視頻,顯示該工藝生產(chǎn)的晶圓測試過程,最后的結(jié)果就是通過了所有測試,內(nèi)部的SRAM、邏輯單元、模擬單元都符合規(guī)范,芯片很“健康””。

              Intel沒有公布這個晶圓的具體情況,不過結(jié)合之前的信息來看,這個測試的晶圓應(yīng)該是14代酷睿Meteor Lake,已經(jīng)在今年第二季度完成計算單元的流片,現(xiàn)在測試非常合理。

              - THE END -

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              #Intel#CPU處理器

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